इलेक्ट्रोस्टैटिक स्प्रे सिस्टम के लिए उपकरण के चार बुनियादी टुकड़े

बहुत से पाउडर कोटिंग इलेक्ट्रोस्टैटिक स्प्रे सिस्टम में चार बुनियादी उपकरण शामिल होते हैं - फीड हॉपर, इलेक्ट्रोस्टैटिक पाउडर स्प्रे गन, इलेक्ट्रोस्टैटिक पावर सोर्स और पाउडर रिकवरी यूनिट। इस प्रक्रिया के कार्यात्मक संचालन को समझने के लिए प्रत्येक टुकड़े की चर्चा, अन्य घटकों के साथ इसकी बातचीत और उपलब्ध विभिन्न शैलियों की चर्चा आवश्यक है।

पाउडर फीडर यूनिट से स्प्रे गन को पाउडर की आपूर्ति की जाती है। आमतौर पर इस इकाई में संग्रहित पाउडर सामग्री को या तो द्रवित किया जाता है या स्प्रे गन (ओं) तक ले जाने के लिए पंपिंग डिवाइस को गुरुत्वाकर्षण द्वारा खिलाया जाता है (चित्र 5-9)। नए विकसित फीड सिस्टम सीधे स्टोरेज बॉक्स से पाउडर पंप कर सकते हैं।

पंपिंग डिवाइस आमतौर पर एक वेंटुरी के रूप में संचालित होता है, जहां संपीड़ित या मजबूर वायु प्रवाह पंप के माध्यम से गुजरता है, एक साइफ़ोनिंग प्रभाव पैदा करता है और फीड हॉपर से पाउडर होसेस या फीड ट्यूब में पाउडर खींचता है, जैसा कि चित्र 5-10 में दिखाया गया है। वायु जीन हैralआसान परिवहन और चार्जिंग क्षमताओं के लिए पाउडर कणों को अलग करने के लिए उपयोग किया जाता है। पाउडर प्रवाह की मात्रा और वेग को समायोजित किया जा सकता है।

ज्यादातर मामलों में, फीडर डिवाइस पाउडर द्रव्यमान को "तोड़ने" में सहायता के लिए या तो हवा, कंपन या यांत्रिक उत्तेजक का उपयोग करता है। इस क्रिया के परिणामस्वरूप पाउडर का परिवहन बहुत आसान हो जाता है, जबकि स्प्रे बंदूक (ओं) में पाउडर प्रवाह की मात्रा और वेग को विनियमित करने में सहायता करता है। पाउडर और हवा की मात्रा का स्वतंत्र नियंत्रण कोटिंग कवरेज की वांछित मोटाई प्राप्त करने में सहायता करता है। पाउडर फीडर एक या एक से अधिक इलेक्ट्रोस्टैटिक स्प्रे गन को पर्याप्त सामग्री प्रदान करने में सक्षम हैral फ़ुट दूर। पाउडर फीडर कई अलग-अलग आकारों में उपलब्ध हैं, आवेदन के आधार पर चयन के साथ, आपूर्ति की जाने वाली बंदूकों की संख्या और एक निर्दिष्ट अवधि में पाउडर की मात्रा का छिड़काव किया जाता है। जीनralशीट धातु से निर्मित, फीडर इकाई को आसन्न रखा जा सकता है, या यहां तक ​​​​कि एक पूर्णांक भी हो सकता हैral रिकवरी यूनिट का हिस्सा।

फीडर इकाइयाँ, जो स्प्रे अवधारणा के लिए पाउडर सामग्री को पंप करने की सुविधा के लिए द्रवित हवा का उपयोग करती हैं। संपीड़ित, या मजबूर, हवा की आपूर्ति एयर प्लेनम जीन को की जाती हैrally फीडर यूनिट के नीचे स्थित है। फीडर यूनिट के एयर प्लेनम और मुख्य बॉडी के बीच एक झिल्ली होती है, जो आमतौर पर झरझरा प्लास्टिक-मिश्रित सामग्री से बनी होती है। संपीड़ित हवा इसके माध्यम से फीडर यूनिट के मुख्य भाग में जाती है, जहां पाउडर सामग्री जमा होती है। हवा की द्रवीकरण क्रिया के परिणामस्वरूप पाउडर सामग्री ऊपर की ओर उठती है, एक उत्तेजित, या द्रवित, अवस्था (चित्र 5-2) का निर्माण होता है। इस द्रवीकरण क्रिया के साथ, संलग्न, या जलमग्न, वेंटुरी-शैली पंपिंग डिवाइस (चित्र 5-9 देखें) द्वारा फीडर यूनिट से साइफ़ोन किए गए पाउडर की पैमाइश को नियंत्रित करना संभव है।

जब गुरुत्वाकर्षण फ़ीड-प्रकार की फ़ीड इकाइयों का उपयोग किया जाता है, तो ऑपरेशन में एक शंक्वाकार या फ़नल के आकार की इकाई शामिल होती है जिसमें पाउडर सामग्री संग्रहीत होती है। इस प्रकार की फीडर इकाई से जुड़े पम्पिंग उपकरण आमतौर पर वेंचुरी-प्रकार के पंप के होते हैं। कुछ मामलों में, पंपिंग डिवाइस द्वारा उत्पादित वेंटुरी प्रभाव द्वारा पाउडर साइफ़ोनिंग को बढ़ाने के लिए कंपन या यांत्रिक स्टिरर का उपयोग किया जाता है। पाउडर गुरुत्वाकर्षण पंपिंग उपकरणों को खिलाया जाता है, और पाउडर का द्रवीकरण आवश्यक नहीं है। फिर से, चित्र 5-9 देखें। पाउडर को डबल-वेल साइफन ट्यूब का उपयोग करके सीधे पाउडर बॉक्स या कंटेनर से भी पहुंचाया जा सकता है, जो समान वितरण की अनुमति देने के लिए पर्याप्त स्थानीय द्रवीकरण प्रदान करता है।

कभी-कभी किसी भी गंदगी, पाउडर के गुच्छों और अन्य मलबे को बाहर निकालने के लिए और छिड़काव से पहले पाउडर को कंडीशन करने के लिए फीडर इकाइयों के संयोजन के साथ सीविंग उपकरणों का उपयोग किया जाता है। पाउडर डिलीवरी, स्प्रे और रिकवरी (चित्रा 5-1 1) के बंद लूप के भीतर पाउडर के आसान प्रवाह को सुविधाजनक बनाने के लिए इन चलनी को या तो सीधे फीडर यूनिट पर या ऊपर रखा जा सकता है।

इलेक्ट्रोस्टैटिक स्प्रे सिस्टम के लिए उपकरण के चार बुनियादी टुकड़े