Purškimo procesas ir reikalavimai genuiral ir meno milteliniai dažai

Vadinamoji miltelinė danga yra aukštos įtampos elektrostatinės vainiko elektrinio lauko principo panaudojimas. Prijungtas prie aukštos įtampos anodo metalinio deflektorių standarto ant pistoleto galvutės, purškiant ruošinį įžeminimo formavimas teigiamas, kad tarp pistoleto ir ruošinio susidarytų stiprus statinis elektrinis laukas. Kai suslėgtas oras kaip nešančiosios dujos, statinė miltelinės dangos milteliai nusiuntė žiedadulkių vamzdelį į purškimo pistoleto deflektoriaus strypą, kreipiamąjį strypą, prijungtą prie aukštos įtampos anodo generuojamo vainikinio išlydžio, šalia tankaus neigiamo krūvio, miltelius, kad sukurtų neigiamą krūvį, ir pateko į didelio elektrinio lauko stiprumą. elektrostatinis laukas, atliekantis dvigubą statinės elektros ir nešančiųjų dujų vaidmenį, milteliai link šlifuoto ruošinio paviršiaus suformuoja vienodą miltelių sluoksnio storį, o po to terminis kietėjimas paverčiamas patvaria danga.
Dangos uždėjimo procesas:
Pirminis apdorojimas – džiovinimas, kad būtų pašalintas vanduo – purškimas – Patikrinimas – kepimas – patikrinimas – Baigta

Dengimo reikalavimas

Purškimo reikalavimai genuiral tipo miltelinės dangos

1. Miltelinės dangos savybės gali suteikti visišką laisvumą ir prailginti dangos tarnavimo laiką ir sulaužyti dažytą paviršių pirmiausia griežtai apdorojus paviršių
2. purškiamas, buvo nudažytas taip, kad būtų visiškai įžemintas, siekiant padidinti pūtimo miltelinio dažymo efektyvumą.
3. didesniems dažomo paviršiaus defektams dengti įbrėžimams laidžiu glaistu, siekiant užtikrinti dangos susidarymą ir išlyginti.
4. Purškiamas terminis kietėjimo poreikis, miltelių gaminio techniniuose rodikliuose vyrauja kietėjimo sąlygos, tačiau turi būti visiškai garantuota kietėjimo temperatūra ir laikas, kad būtų išvengta kietėjimo dėl nepakankamos avarijos kokybės.
5. iš karto nuvalyti dulkes po apžiūros, aptikus defektą reikia nedelsiant tvarkyti, išgydžius defektą, jo apimtis tik dalinė, nepažeidžiant dažyto paviršiaus apdailos, kurią galima panaudoti taisant spalva milteliai atskiesti acetonu, jei diapazonas turi įtakos paviršiaus kokybei, naudokite švitrinį popierių, tada vieną kartą papurkškite arba naudokite dažų valikliu, kad pašalintumėte dangą, o tada vėl susukite miltelius.
6. miltelių, kuriuos reikia filtruoti, atgavimas, kad būtų pašalintos šiukšlės po tam tikro procento naujų miltelių sumaišymo.
7. miltelių statinei, miltelių kambarys ir regeneravimo sistema turėtų vengti užteršimo skirtingos spalvos milteliais, todėl kiekvieną kartą keičiant spalvą reikia išvalyti.

Purškimo reikalavimai meno tipo miltelinėms dangoms

Meninė pudra su gražia, stipria trečiąja dimensija ir rapso dekoratyviniu efektu, tačiau jos griežtas konstravimo procesas.

1. dulkinimas įeinančio oro slėgis neturėtų būti per didelis, genasral kontrolė yra 0.5–1.5 kg/cm2. Dėl slėgio gali pablogėti rašto skaidrumas arba atsirasti įdubimų. Elektrostatinė įtampa neturėtų būti per didelė, genasral valdymas apie 60-70Kv. Įtampa yra per aukšta, todėl milteliai, pritvirtinti prie paviršiaus, įvyksta atšokimo reiškinys Ma Hang. Vargšų ir kitų defektų išlyginimas.
2. kurių reikia imtis siekiant užtikrinti, kad dangos storis, genasral kontrolė gali padėti susidaryti tik reikšmingiems raštams ir raštą tarp 70-100 μm, plona danga raštas nėra akivaizdus, ​​tačiau raštas taip pat mažas, todėl gali atsirasti duobučių defektas.
3. kietėjimas turi būti kepamas pagal nurodytą temperatūrą ir laiką. Jei temperatūra yra per žema, laikas yra per trumpas, todėl milteliai nesusiformuos mechaninių savybių modelio, taip pat žymiai sumažėjo, o kietėjimas nėra baigtas. Be to, dėl specialaus meno modelio miltelių gamybos proceso pobūdžio, tada apipurškus perdirbtais milteliais, jo raštas bus mažas arba įvyks nereikšmingų pakitimų, tai genasralLabai rekomenduojama perdirbti meno miltelių miltelius. Nenaudokite. Naudojimas taip pat turi būti išbandytas. Žr. iš to, kas išdėstyta pirmiau, nors ir griežtesni konstrukcijos reikalavimai, manoma, kad dengimo procesas geriau suvoks pirmiau minėtus veiksnius, leis pasiekti norimą pasitenkinimą.