Ujian Lenturan Dan Lekatan salutan serbuk FBE

Salutan serbuk FBE

Lekatan daripada Salutan serbuk FBE

Penguji bekam digunakan terutamanya untuk menentukan lekatan salutan serbuk FBE, dan Rajah.7 menunjukkan prinsip ujian penguji bekam. Kepala penguji bekam berbentuk sfera, menolak bahagian belakang panel bersalut untuk menguji sama ada filem positif retak atau terpisah daripada substrat. Rajah 8 ialah keputusan ujian bekam bagi salutan serbuk epoksi. Dapat dilihat bahawa salutan serbuk FBE yang tidak diisi dengan prapolimer CTBN-EP mempunyai rekahan kecil yang boleh dilihat (Rajah 8(1)), manakala salutan diisi dengan prapolimer CTBN-EP (Rajah 8(2-3)) tidak mempunyai rekahan yang kelihatan, menunjukkan lekatan dan keliatan yang baik.


Tahan terhadap ujian lenturan salutan serbuk FBE

Rajah 9 menunjukkan rintangan kepada keputusan ujian lenturan bagi tiga jenis salutan serbuk FBE. Rintangan terhadap lenturan salutan serbuk FBE tanpa mengisi dengan prapolimer CTBN-EP adalah lemah (Rajah 9(1)), dan fenomena kegagalan kohesif ditemui. Apabila prapolimer CTBN-EP ditambah ke dalam salutan serbuk, rintangan terhadap lenturan salutan serbuk FBE bertambah baik dengan ketara dengan peningkatan kandungan prapolimer CTBN-EP (Rajah 9(2-3)), dan tiada fenomena kegagalan kohesif ditemui , menunjukkan rintangan yang tinggi terhadap lenturan.


Ujian semburan garam salutan


Rintangan kakisan salutan dinilai dengan mendedahkan salutan kepada suasana kabus garam yang dihasilkan dengan menyembur larutan NaCl berair 5wt% pada 35 ± 2 °C selama 3000 jam mengikut spesifikasi ISO 14655:1999. Selepas penyingkiran dari ruang kabus garam, semua sampel dibilas dengan air suling untuk mengeluarkan sebarang sisa, kakisan salutan diperhatikan. Ia boleh dilihat daripada Rajah.10, selepas salutan diisi dengan prapolimer CTBNEP (Rajah.10b), tiada bukti karat, dan spesimen bebas cuti, menunjukkan rintangan kakisan salutan yang diisi dengan prapolimer EP CTBN. boleh memenuhi keperluan standard.


Rintangan kakisan salutan organik tanpa kecacatan bergantung terutamanya pada sifat penghalangnya, iaitu, bagaimana ia mengurangkan resapan lembapan dan ion menghakis melalui filem. Antara parameter yang menyumbang kepada sifat penghalang ialah serangan substrat logam asas. Salutan berhampiran kawasan kosong mencipta lapisan pasif pada substrat yang menghalang kakisan selanjutnya. Oleh itu, ia boleh menangkap ion (mungkin Cl−) dengan mudah untuk membentuk polimer terdop.

Ruangan komen telah ditutup