Teknologi Salutan Poliaspartik
Kimia adalah berdasarkan tindak balas poliisosianat alifatik dan ester poliaspartik, yang merupakan diamina alifatik. Teknologi ini pada mulanya digunakan dalam formulasi salutan bawaan pelarut poliuretana dua komponen konvensional kerana ester poliaspartik adalah pelarut reaktif yang sangat baik untuk salutan poliuretana pepejal tinggi
Perkembangan terkini dalam teknologi salutan poliaspartik telah tertumpu pada pencapaian salutan VOC rendah atau hampir sifar di mana ester poliaspartik adalah komponen utama tindak balas bersama untuk tindak balas dengan poliisosianat. Kereaktifan unik dan boleh laras bagi ester poliaspartik membolehkan reka bentuk salutan pengawetan cepat yang disesuaikan dengan keperluan aplikasi. Ciri pengawetan cepat salutan ini boleh memberikan peningkatan produktiviti yang ketara dan menjimatkan wang, bersama-sama dengan binaan tinggi, pengawetan suhu rendah, dan rintangan lelasan dan kakisan.
Nama polyaspartics baru-baru ini menjadi popular di kalangan perumus dalam industri kerana keperluan untuk membezakannya daripada poliurea dan poliuretana. Secara takrifan, poliaspartik ialah poliurea alifatik kerana ia adalah tindak balas poliisosianat alifatik dengan ester poliaspartik – iaitu diamina alifatik. Walau bagaimanapun, salutan poliaspartik sangat berbeza dalam kedua-dua sifat aplikasi dan prestasi salutan daripada poliurea konvensional. Sebagai contoh, polyaspartic membenarkan perumus mengawal kadar tindak balas dan penyembuhan, oleh itu, potlife campuran dua komponen boleh berkisar antara lima minit hingga dua jam. Manakala teknik sapuan semburan termasuklah penggunaan plural peralatan semburan komponen, banyak aplikasi boleh digunakan dengan penyembur konvensional, menjadikan aplikasi lebih kurang rumit dan kurang terdedah kepada ralat
Teknologi polyaspartic lebih dekat dalam aplikasi dan ciri prestasinya kepada salutan poliuretana alifatik 2 komponen. Ia sering digunakan sebagai lapisan atas kerana sifatnya yang tidak menguning. Tetapi, di sini juga, terdapat perbezaan yang ketara. Salutan poliaspartik, sebagai contoh, boleh dirumuskan kepada pepejal yang sangat tinggi (70-100% pepejal) dan digunakan pada binaan filem yang lebih tinggi (sehingga 15 mils WFT dalam satu lapisan) daripada poliuretana alifatik dua komponen biasa. Oleh kerana polyaspartic adalah pengeringan yang lebih cepat daripada poliuretana alifatik biasa, ia sering digunakan dalam aplikasi di mana penyembuhan cepat bermakna produktiviti yang lebih baik dalam operasi mengecat.