ಲೇಪನ ಫಾರ್ಮುಲೇಶನ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಸೈಜರ್ಗಳು
ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಸೈಜರ್ಗಳು ಭೌತಿಕವಾಗಿ ಒಣಗಿಸುವ ಫಿಲ್ಮ್ ರೂಪಿಸುವ ವಸ್ತುಗಳ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ ಲೇಪನಗಳ ಫಿಲ್ಮ್ ರಚನೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಒಣ ಫಿಲ್ಮ್ ನೋಟ, ತಲಾಧಾರ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆ, ಸ್ಥಿತಿಸ್ಥಾಪಕತ್ವ, ಅದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಮಟ್ಟದ ಗಡಸುತನದ ಸಂಯೋಜನೆಯೊಂದಿಗೆ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಲೇಪನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಬೇಡಿಕೆಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸಲು ಸರಿಯಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ರಚನೆಯು ಅತ್ಯಗತ್ಯ.
ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಸೈಜರ್ಗಳು ಫಿಲ್ಮ್ ರಚನೆಯ ತಾಪಮಾನವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುವ ಮೂಲಕ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಲೇಪನವನ್ನು ಸ್ಥಿತಿಸ್ಥಾಪಕಗೊಳಿಸುತ್ತವೆ; ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಸೈಜರ್ಗಳು ಪಾಲಿಮರ್‌ಗಳ ಸರಪಳಿಗಳ ನಡುವೆ ತಮ್ಮನ್ನು ಎಂಬೆಡ್ ಮಾಡುವ ಮೂಲಕ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತವೆ, ಅವುಗಳ ಅಂತರವನ್ನು ("ಮುಕ್ತ ಪರಿಮಾಣ" ಹೆಚ್ಚಿಸುವುದು), ಮತ್ತು ಹೀಗೆ ಪಾಲಿಮರ್‌ಗೆ ಗಾಜಿನ ಪರಿವರ್ತನೆಯ ತಾಪಮಾನವನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅದನ್ನು ಮೃದುಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ.
ನೈಟ್ರೋಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ (NC) ನಂತಹ ಪಾಲಿಮರಿಕ್ ಫಿಲ್ಮ್ ರಚನೆಯ ವಸ್ತುಗಳಲ್ಲಿನ ಅಣುಗಳು ವಿಶಿಷ್ಟವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಸರಪಳಿ ಚಲನಶೀಲತೆಯನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತವೆ, ಪಾಲಿಮರ್ ಸರಪಳಿಗಳ ಬಲವಾದ ಆಣ್ವಿಕ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ (ವ್ಯಾನ್ ಡೆರ್ ವಾಲ್ಸ್ ಪಡೆಗಳಿಂದ ವಿವರಿಸಲಾಗಿದೆ) ವಿವರಿಸಲಾಗಿದೆ. ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಸೈಜರ್ನ ಪಾತ್ರವು ಅಂತಹ ಸೇತುವೆಯ ಬಂಧಗಳ ರಚನೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುವುದು ಅಥವಾ ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ತಡೆಯುವುದು. ಸಂಶ್ಲೇಷಿತ ಪಾಲಿಮರ್‌ಗಳ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ, ಸ್ಥಿತಿಸ್ಥಾಪಕ ವಿಭಾಗಗಳು ಅಥವಾ ಮೊನೊಮರ್‌ಗಳನ್ನು ಸಂಯೋಜಿಸುವ ಮೂಲಕ ಇದನ್ನು ಸಾಧಿಸಬಹುದು, ಇದು ಆಣ್ವಿಕ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ತೀವ್ರವಾಗಿ ತಡೆಯುತ್ತದೆ; ಈ ರಾಸಾಯನಿಕ ಮಾರ್ಪಾಡು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು "ಒಳಗಿನ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಸೇಶನ್" ಎಂದು ಕರೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ. ನಾಟುಗಾಗಿral ಉತ್ಪನ್ನಗಳು ಅಥವಾ ಕಳಪೆ ಸಂಸ್ಕರಣೆಯ ಹಾರ್ಡ್ ಪಾಲಿಮರ್ಗಳು, ಆಯ್ಕೆಯು ಲೇಪನದ ಸೂತ್ರೀಕರಣದಲ್ಲಿ ಬಾಹ್ಯ ಬಳಕೆ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಸೈಜರ್ಗಳು
ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಸೈಜರ್ಗಳು ರಾಸಾಯನಿಕ ಕ್ರಿಯೆಯಿಲ್ಲದೆ ಪಾಲಿಮರ್ ಬೈಂಡರ್ ಅಣುವಿನೊಂದಿಗೆ ಭೌತಿಕವಾಗಿ ಸಂವಹನ ನಡೆಸುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಏಕರೂಪದ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತವೆ. ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯು ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಸೈಜರ್ನ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ರಚನೆಯನ್ನು ಆಧರಿಸಿದೆ, ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಧ್ರುವ ಮತ್ತು ಧ್ರುವೀಯವಲ್ಲದ ಭಾಗಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಗಾಜಿನ ತಾಪಮಾನವನ್ನು (Tg) ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಹೆಚ್ಚಿನ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಲು, ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಸೈಜರ್ ಫಿಲ್ಮ್ ರಚನೆಯ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ರಾಳವನ್ನು ಭೇದಿಸುವುದಕ್ಕೆ ಸಮರ್ಥವಾಗಿರಬೇಕು.
ಕ್ಲಾಸಿಕ್ ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಜರ್‌ಗಳು ಕಡಿಮೆ ಆಣ್ವಿಕ ತೂಕದ ವಸ್ತುಗಳಾಗಿವೆ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಥಾಲೇಟ್ ಎಸ್ಟರ್‌ಗಳು. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಇತ್ತೀಚಿಗೆ ಥಾಲೇಟ್ ಮುಕ್ತ ಉತ್ಪನ್ನಗಳಿಗೆ ಆದ್ಯತೆ ನೀಡಲಾಗುತ್ತದೆ ಏಕೆಂದರೆ ಉತ್ಪನ್ನ ಸುರಕ್ಷತೆಯ ಕಾಳಜಿಯಿಂದಾಗಿ ಥಾಲೇಟ್ ಎಸ್ಟರ್‌ಗಳ ಬಳಕೆಯನ್ನು ನಿರ್ಬಂಧಿಸಲಾಗಿದೆ.