Tags: Tenperatura baxuko hauts estaldura

BERO-SENTSIBLEKO SUBSTRATOAK estalduraren industrian Azken urteotan, etengabeko ikerketa eta garapena bideratu da hauts-estaldura-hautsa formulatzera, tenperatura baxuetan, 212ºF-tik behera, ontzi daitekeena, iraunkortasuna edo kalitatea kaltetu gabe. Hauts hauek tenperatura sentikorrak diren materialetan erabil daitezke, baita beste ontze-sistemekin energia kantitate izugarria behar duten pieza masiboetan ere. Egurrezko materialek, hala nola partikulazko oholak eta zuntzezko oholak, baita beira eta plastikozko produktuak ere, hauts estalitako akaberaz balia daitezke orain.Irakurri gehiago …

Tenperatura baxuko sendatzeko hauts estaldurak Beroarekiko sentikorrak diren substratuetarako Beroarekiko sentikorrak diren substratuetan aplikatzeko, hautsak 302 °F (150 °C) edo 212 °F (100 °C) azpitik sendatu behar du. Several helburu hori lortzeko planteamenduak garatu dira, tenperatura baxuan sendatzeko kimika konbentzionaletatik hasi eta erradiazioarekin senda daitezkeen kimika ebolutiboetaraino. Argitaratutako artikulu eta patente ugarik baieztatu dute UV bidez senda daitezkeen teknologiek MDFn estaldura distiratsuak eta leunak ekoizteko duten gaitasuna prozesuaren denboraren hiru edo bost minuturen buruan.8 UV bidez ondutako hautsen abantaila nagusiak hauek diraIrakurri gehiago …