Cymhariaeth rhwng haenau UV a haenau eraill

Cymhariaeth rhwng haenau UV a haenau eraill

Er bod halltu UV wedi cael ei ddefnyddio'n fasnachol ers dros ddeng mlynedd ar hugain (dyma'r dull cotio safonol ar gyfer argraffu sgrin gryno ddisg a lacr er enghraifft), mae haenau UV yn dal yn gymharol newydd ac yn tyfu. Mae hylifau UV yn cael eu defnyddio ar gasys ffonau symudol plastig, PDAs a dyfeisiau electronig llaw eraill. UV haenau powdr yn cael eu defnyddio ar gydrannau dodrefn bwrdd ffibr dwysedd canolig. Er bod llawer o debygrwydd â mathau eraill o haenau, mae yna rai gwahaniaethau allweddol hefyd.

Tebygrwydd a Gwahaniaethau

Un tebygrwydd yw bod haenau UV yn nodweddiadol yn cael eu gosod yn yr un ffordd â haenau eraill. Gellir gosod cotio hylif UV trwy chwistrell, dip, cotio rholio, ac ati, a chaiff haenau powdr UV eu chwistrellu'n electrostatig. Fodd bynnag, oherwydd bod yn rhaid i ynni UV dreiddio i'r trwch cotio cyfan, mae'n dod yn bwysicach cymhwyso trwch cyson ar gyfer iachâd cyflawn. Mae llawer o brosesau cotio UV yn ymgorffori chwistrellu awtomataidd neu dechnegau eraill i sicrhau'r cysondeb hwn o ran cymhwyso. Er y gallai hyn olygu bod angen ychwanegu offer cymhwyso, cofiwch y bydd ansawdd eich cynnyrch terfynol yn fwy cyson ac y byddwch yn defnyddio ac yn gwastraffu llai o ddeunydd cotio gyda system awtomataidd.
Yn wahanol i'r rhan fwyaf o haenau confensiynol, gellir adennill llawer o haenau UV - hylif a phowdr -. Mae hyn oherwydd na fydd y haenau UV yn dechrau gwella nes eu bod yn agored i'r egni UV. Felly cyn belled â bod yr ardal baent yn cael ei chynnal a'i chadw'n dda a'i chadw'n lân, gall hyn fod yn arbediad enfawr. Gwahaniaeth arall i'w ystyried yw bod halltu UV yn llinell welediad, sy'n golygu bod yn rhaid i'r arwynebedd cyfan sy'n cael ei orchuddio fod yn agored i'r egni UV. Ar gyfer rhannau mawr iawn neu rannau tri dimensiwn cymhleth efallai na fydd halltu UV yn bosibl neu ni ellir ei gyfiawnhau'n economaidd. Fodd bynnag, cymerwyd camau breision yn ystod y blynyddoedd diwethaf i ddatblygu technegau newydd, ac mae meddalwedd modelu hyd yn oed ar gael i helpu i wneud y gorau o'r nifer o systemau UV ac efelychu'r broses wella fwyaf effeithlon ar gyfer rhannau tri dimensiwn.